辐射加热源

摘要

一种用于加热一个像是一个半导体晶圆之工件的辐射加热源，其系包括有被配置在一个阵列之中的复数个辐射加热元件，而该阵列系大体上对着一个来源的中心主轴而大体上同中心者。一个反射器系具有一个界定着一个穴部或是通道的反射表面，该穴部或是通道系含有该等加热元件，前述的反射器系包含有在该中心主轴周围延伸并且被加工以将该等加热元件所发射出之辐射能量反射到一个被晶圆所占据之区域的壁部。该等通道反射表面包含有一个平面以及/或一个圆柱以及/或一个圆锥以及/或一个对于前述加热元件为凸面之回转弯曲表面的至少一部份，该回转弯曲表面系与二个或多个相邻加热元件接界或是横跨二个或多个相邻加热元件。

主权项

一种用于加热一个工件的辐射能源，该工件系相对于该辐射能源而被定位，该辐射能源包含有：复数个辐射加热元件，该等辐射加热元件系被配置在单一个阵列之中，该阵列系整体地对着一个能源中心主轴而为同中心者；一个具有一个反射表面的反射器，该反射表面系限定出单一个在一个工件的方向中开放的通道并且容纳着该单一阵列的加热元件，前述的反射器包含有在该中心主轴之至少一个部位的周围延伸来界出该单一的通道、且被表面加工以将该等加热元件所发射出之辐射能量反射到一个被该工件所占据之区域的内部壁部、外部壁部及底部壁部；一个或多个可更换的反射插入物，此插入物包含有平面及/或圆柱及/或圆锥及/或一个凹面之弯曲回转表面，此等插入物系在前述反射器内侧同轴放置，用以在一个不同的方向中重新分布部份的辐射能量；前述通道的一个底部壁部，其系包含有一个平面的一部份，且前述内部及外部壁部包含有一个回转的圆锥表面，此表面系跨越二个或更多个相邻的加热元件，此等加热元件系沿着前述通道之介于前述底部壁部与前述工件之间的一个区域向外变宽，用以将辐射能量经由一个变宽的光学隔膜朝向工件反射。