| 发明名称 | 涂敷设备和涂敷方法 | ||
| 摘要 | 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。 | ||
| 申请公布号 | CN100595887C | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200680046966.2 | 申请日期 | 2006.12.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 泽田郁夫;松崎和爱;田中崇;岩下光秋;宗像瑞惠 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;B05C11/08(2006.01)I;B05C15/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使用化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，所述层流形成气体的运动粘度系数大于所述常压气体；其中所述常压气体或所述层流形成气体被供应至衬底的中心部分。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||