发明名称 |
焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法 |
摘要 |
本发明属于无机化合物晶体及制造技术领域,具体涉及一种焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法。本发明的生长方法包括:原料的合成,熔料,接种,生长和降温四个步骤,其中,晶体生长完毕后的降温过程中,在相变点温度以上时,降温速率为30~50℃/分钟,在相变点温度以下时,降温速率为100~200℃/小时。本发明的生长方法解决了YPS晶体生长过程中非一致熔融的问题和相变的问题,可以获得晶体质量较好的YPS高温δ相单晶。 |
申请公布号 |
CN101665982A |
申请公布日期 |
2010.03.10 |
申请号 |
CN200910196441.2 |
申请日期 |
2009.09.25 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
冯鹤;丁栋舟;任国浩;潘尚可;陆晟;张卫东 |
分类号 |
C30B29/34(2006.01)I;C30B13/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/34(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 |
代理人 |
许亦琳;余明伟 |
主权项 |
1、一种焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,包括如下步骤:1)配料:将原料按照晶体组成比例配料后混合均匀制得混合料;2)预烧结:将步骤1)中制得的混合料压成料棒后进行预烧结后制得多晶棒;3)晶体生长:将多晶棒和籽晶安装在浮区炉中,密封并通入保护气体,然后升温至多晶棒和籽晶融化,升温同时多晶棒和籽晶分别同向或反向转动,保温,接种;然后进行晶体生长;4)降温:晶体生长完毕后进行降温,在降温过程中,在相变点温度以上时,降温速率为30~50℃/分钟,在相变点温度以下时,降温速率为100~200℃/小时。 |
地址 |
200050上海市长宁区定西路1295号 |