VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG DER MUSTERDEFORMATION UND DES FOTORESIST-POISONING BEI DER HERSTELLUNG VON HALBLEITERBAUELEMENTEN
摘要
申请公布号
DE60330998(D1)
申请公布日期
2010.03.04
申请号
DE20036030998
申请日期
2003.07.29
申请人
GLOBALFOUNDRIES INC.
发明人
BONSER, DOUGLAS J.;PLAT, MARINA V.;YANG, CHIH YUH;BELL, SCOTT A.;CHAN, DARIN A.;FISHER, PHILIP A.;LYONS, CHRISTOPHER F.;CHANG, MARK S.;GAO, PEI-YUAN;WRIGHT, MARILYN I.;YOU, LU;DAKSHINA-MURTHY, SRIKANTESWARA
