发明名称 PLANT FOR THERMAL PROCESSING PROCESSES
摘要 <p>Anlage für thermische Bearbeitungsprozesse, mit einem ersten Bearbeitungsabschnitt zur Erwärmung eines Werkstücks oder zu bearbeitenden Mediums auf eine erste Prozesstemperatur, einem Temperaturanpassabschnitt, in dem das Werkstück oder Medium eine Ausgleichstemperatur annimmt, und einem zweiten Bearbeitungsabschnitt zum Überführen des Werkstücks oder Mediums auf eine zweite Prozesstemperatur, wobei der Temperaturanpassabschnitt mindestens überwiegend mit einem Wärmeabstrahlung des Werkstücks oder Mediums reflektierenden Material derart ausgekleidet ist, dass das Werkstück bzw. Medium im Wesentlichen durch Rückreflexion seiner Wäremabstrahlung auf die Ausgleichstemperatur überführt bzw. auf dieser gehalten wird.</p>
申请公布号 WO2010020266(A1) 申请公布日期 2010.02.25
申请号 WO2008EP06855 申请日期 2008.08.20
申请人 ADVANCED PHOTONICS TECHNOLOGIES AG;WIRTH, ROLF;GAUS, RAINER;BAER, KAI, K., O. 发明人 WIRTH, ROLF;GAUS, RAINER;BAER, KAI, K., O.
分类号 F27D99/00;C21D1/34;F27B9/02;F27B9/30;F27B9/36 主分类号 F27D99/00
代理机构 代理人
主权项
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