| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer dielektrischen Schicht in einem elektroakustischen Bauelement, insbesondere einem mit akustischen Oberflächen- oder akustischen Volumenwellen arbeitenden Bauelement, mit einem Substrat und einer zugeordneten Elektrodenstruktur, bei dem die dielektrische Schicht gebildet wird, indem wenigstens ein Schichtaufdampfmaterial, nämlich zumindest ein Aufdampfglasmaterial oder zumindest Siliziumdioxid, mittels einer plasmagestützten thermischen Verdampfung des Schichtaufdampfmaterials abgeschieden wird. Des weiteren betrifft die Erfindung ein elektroakustisches Bauelement. |
