发明名称 在线预测刻蚀设备维护的方法
摘要 本发明公开了一种在线预测刻蚀设备维护的方法,利用蚀刻设备上固有的发射谱线光谱仪OES,检测OES在工艺过程中发射的谱线的强度变化;并根据检测结果,量化工艺过程中的工艺参数;并对多次检测并量化的工艺参数进行统计分析,得出所述工艺参数的变化趋势;之后根据工艺过程对刻蚀设备的要求设定控制界限,当所述工艺参数的变化趋势超过控制界限时,则对蚀刻设备进行维护。既避免了传统的经验估计维护时间不准确,造成设备频繁停机或维护不足造成工艺偏移;又避免了改变设备、增加其它在线传感器,降低成本。提高了硅片加工的生产效率,并避免工艺结果不合格造成的废片,提高良率。适用于半导体蚀刻设备的维护,也适用于其它设备的维护。
申请公布号 CN100587902C 申请公布日期 2010.02.03
申请号 CN200610113143.9 申请日期 2006.09.15
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 陈卓;胡立琼;谢凯
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人 赵镇勇;李丽娟
主权项 1、一种在线预测刻蚀设备维护的方法,所述的蚀刻设备包括反应腔室,反应腔室的侧壁上设有发射谱线光谱仪OES,其特征在于,包括以下步骤:A、检测OES在工艺过程中发射的谱线的强度信息;B、根据对检测结果的分析,量化工艺过程中的工艺参数,并对多次检测并量化的工艺参数进行统计分析,得出所述工艺参数的变化趋势;之后,通过试验或统计的方法分析得出所述OES谱线的强度信息与所述工艺参数间的关系,使所述OES谱线的强度信息反应出刻蚀设备的部件状况;C、根据工艺过程对刻蚀设备的要求设定控制界限,当所述工艺参数的变化趋势超过设定的控制界限时,则对蚀刻设备进行维护;之后,根据所述OES谱线的强度信息与所述工艺参数间的关系得出所述OES谱线的强度信息的控制界限,当所述OES谱线的强度信息超过该控制界限时,则对刻蚀设备进行维护;所述的步骤A包括:步骤A1、检测多次对反应腔室进行干法清洗过程中OES发射的谱线的强度变化,并记录每次清洗过程中OES发射的谱线的强度达到稳定时所需的稳定时间;所述的步骤B包括:步骤B1、对上述每次检测的稳定时间进行统计,得出所述稳定时间随干法清洗过程中反应物或生成物的量的变化趋势;步骤B2、根据测定结果,得出干法清洗过程中反应物或生成物的量随反应腔室内壁的粗糙度的变化趋势;进而得出所述稳定时间随反应腔室内壁的粗糙度的变化而变化的趋势;所述的步骤C包括:步骤C1、根据工艺过程对反应腔室部件的要求设定控制界限,当所述稳定时间的变化趋势超过设定的控制界限时,则对反应腔室部件进行维护。
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