发明名称 在高氮化学势下制备膜及器件的方法
摘要 在氮化学势相对高的环境中制备氮化物半导体膜、例如用于固态发光器件和电子器件的氮化物半导体膜,从而使生长中的膜的氮空位减少。一种反应器设计及其使用方法,通过使用一种催化金属表面对前体进行预裂解、使前体预热解、使用经催化裂解的分子氮作氮前体、和/或使表面暴露于富含氮活性的环境中,可提供高的氮前体分压。由此可提供效率改进的发光器件,特别是在蓝光和绿光波长下的效率改进,并可改进氮化物电子器件中的传输性能,即改进基于氮化物基器件例如InGaAlN激光二极管、晶体管和发光二极管等的性能。
申请公布号 CN101625970A 申请公布日期 2010.01.13
申请号 CN200910158534.6 申请日期 2009.07.10
申请人 帕洛阿尔托研究中心公司 发明人 D·P·布尔;P·季泽尔;C·L·查;N·M·约翰逊;杨志鸿;J·E·诺斯拉普
分类号 H01L21/205(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 代理人 钟守期;唐铁军
主权项 1.一种在生长环境中制备半导体器件用外延氮化物膜的方法,包括:在反应器生长室内放入一个生长基底;制造一种高氮化学势的环境,包括以下步骤:将一种前体气体以某一方向注入所述生长室内,以使所述前体气体引至至少是接近所述生长基底的生长表面,所述前体气体为一种氮源;将III族烷类注入所述生长室内,所述III族烷类以低于其热解温度的温度注入;和使外延氮化物膜在所述生长环境中生长;由此生长出具有改进的器件性能的氮化物半导体膜。
地址 美国加利福尼亚州