等离子体增强化学气相沉积腔室背板强化

摘要

本发明一般包括一种用于等离子体增强化学气相沉积设备中的背板强化设备。当处理大面积基板时，延伸横跨腔室的背板也相当大。藉由一框架结构来支撑背板的部分，则可维持背板为实质平坦。可选择地，可视需要而调整背板的轮廓以符合处理的特定需求。

主权项

1、一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括：一腔室主体；一背板，与该腔室主体耦接，并围绕一处理区域；以及一框架结构，设置于该处理区域外侧，并与该背板的一中央区域耦接。