| 发明名称 | 衬底保持装置、曝光装置以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以将浸入了衬底的背面侧的液体迅速地回收的衬底保持装置。衬底保持装置(PH)具备：基材(PHB)；形成于基材(PHB)上，支承衬底(P)的背面(Pb)的第一支承部(46)；形成于基材(PHB)上，与衬底(P)的背面(Pb)相对，包围第一支承部(46)而设置的第一周壁部(42)；和设于第一周壁部(42)的外侧的第一回收口(51)；利用沿着第一周壁部(42)的气流，将第一周壁部(42)的外侧的液体(LQ)移动至第一回收口(51)而回收。 | ||
| 申请公布号 | CN100576444C | 申请公布日期 | 2009.12.30 |
| 申请号 | CN200580042429.6 | 申请日期 | 2005.12.14 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 涩田慎 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;徐 谦 |
| 主权项 | 1.一种衬底保持装置，保持被提供液体的处理衬底，具备：基材；第一支承部，形成于所述基材上，支承所述处理衬底的背面；第一周壁部，形成于所述基材上，与所述处理衬底的背面相对，且设置成连续地包围所述第一支承部；以及第一回收口，设于所述第一周壁部的外侧；利用沿着所述第一周壁部的气流，将所述第一周壁部的外侧的液体移动至所述第一回收口而回收。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||