| 发明名称 | 硅片单片清洗工艺腔体结构 | ||
| 摘要 | 硅片单片清洗工艺腔体结构，属于半导体硅片清洗领域。由载片台、旋转系统和多重药液收集杯组成，载片台支撑硅片，旋转系统带动载片台旋转，药液收集杯单独上下运动，一个药液收集杯开启，其它工艺药液收集杯均处于密闭状态。每个药液收集杯在空间上处于相对独立状态。本实用新型对不同工艺的药液的收集在空间上相对独立，有效地减少了药液间的交叉污染，对药液回收后的后续处理、再利用、排放等提供了极大便利。同时因为沉积物的减少，方便了设备的维护保养，延长了设备使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN201364880Y | 申请公布日期 | 2009.12.16 |
| 申请号 | CN200820140154.0 | 申请日期 | 2008.10.15 |
| 申请人 | 北京中联科伟达技术股份有限公司 | 发明人 | 侯瑞兵 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市商泰律师事务所 | 代理人 | 毛燕生 |
| 主权项 | 1.一种硅片单片清洗工艺腔体结构，由载片台、旋转系统和多重药液收集杯组成，，其特征是：载片台支撑硅片，旋转系统带动载片台旋转，药液收集杯单独上下运动，一个药液收集杯开启，其它工艺药液收集杯均处于密闭状态。 | ||
| 地址 | 100012北京市朝阳区北苑路40号(北京有色金属与稀土应用研究所院内) | ||