分離コーティングを有するミラーの表面補正

摘要

本発明は、ＥＵＶリソグラフィ用のミラー（１）であって、基板（２）及び反射コーティング（３、４）を備え、反射コーティングは、第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）及び第２群（４）の層（４ａ、４ｂ）を含み、第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）及び第２群（４）の層（４ａ、４ｂ）は、いずれの場合も５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の使用波長（λＢ）を有する放射線を反射するよう設計され、第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）は、基板（２）と第２群（４）の層（４ａ、４ｂ）との間に配置され、分離コーティング（６）が、第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）と第２群（４）の層（４ａ、４ｂ）との間に配置され、上記分離コーティングは、使用波長を有する放射線が第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）に到達するのを防止することによって、第２群（４）の層（４ａ、４ｂ）を第１群（３）の層（３ａ、３ｂ）から光学的に分離するよう設計されるミラーに関する。反射コーティング（３、４）は、ミラー（１）の表面形態を補正するための層厚変動を有する補正層（５）を有することが好ましい。本発明は、少なくとも１つのかかるミラーを備えたＥＵＶリソグラフィ用の投影光学ユニット及び光学系、かかるミラーの表面形態を補正する方法、及びかかる投影光学ユニットの結像特性を補正する方法にも関する。