发明名称 |
发光装置和使用该发光装置的照明设备 |
摘要 |
一种发光装置(1)包括:基底(11);设置于基底(11)的一个主表面(11a)上的发光元件(12);以及设置成围绕发光元件(12)的光分布控制反射器(14)。光分布控制反射器(14)是大致回转抛物面的至少一部分,并且构成光分布控制反射器(14)内表面的大致回转抛物面表面(14a)是用于采集从发光元件(12)发射的光的光反射表面。发光元件(12)设置于大致回转抛物面表面(14a)的基本焦点位置,且所述基底(11)的所述一个主表面(11a)的法线(N)相对于与所述大致回转抛物面的轴(X)正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点(P)倾斜。于是,可以提供有助于光分布的控制的发光装置(1)。 |
申请公布号 |
CN101578479A |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
CN200880002059.7 |
申请日期 |
2008.01.11 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
金山喜彦;田村哲志;植田贤治 |
分类号 |
F21S8/10(2006.01)I;F21Y101/02(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I |
主分类号 |
F21S8/10(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
邬少俊;王 英 |
主权项 |
1、一种发光装置,包括:基底;包括设置于所述基底的一个主表面上的发光部分的光源部分;以及设置成围绕所述光源部分的光分布控制反射器,其中,所述光分布控制反射器是大致回转抛物面的至少一部分,并且构成所述光分布控制反射器内表面的大致回转抛物面是用于采集从所述光源部分发射的光的光反射表面,所述光源部分的光输出部分设置于所述大致回转抛物面表面的基本焦点的位置,并且所述光源部分的光轴相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。 |
地址 |
日本大阪府 |