发明名称 钨单晶晶须的低温催化合成方法
摘要 钨单晶晶须的低温催化合成方法,包括下述工艺步骤:1:按质量百分比取5%~30%的金属硝酸盐与70%~95%的氧化钨粉末混合均匀;2:将步骤1所得混合物在750~950℃温度下煅烧2小时,得到混合金属氧化物;3:将步骤2获得的金属氧化物粉末置于管式炉中,加热到800~1000℃,同时通入露点在15~40℃的过水氢气和氮气的混合气体,保温0.5~2小时进行还原反应,保持气氛不变,随炉降至室温,其中氮气和氢气的体积比为1∶3。本发明工艺方法简单、合成条件易于控制、操作方便、合成成本低廉、合成的钨晶须长径比大、纯度高、产量大,对设备要求简单,适于工业化生产,为高纯度钨单晶晶须的产业化提供了一种可行的技术方案。
申请公布号 CN101555622A 申请公布日期 2009.10.14
申请号 CN200910043330.8 申请日期 2009.05.08
申请人 中南大学 发明人 贺跃辉;王世良;刘新利;张泉
分类号 C30B25/00(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I;C30B29/02(2006.01)I 主分类号 C30B25/00(2006.01)I
代理机构 长沙市融智专利事务所 代理人 颜 勇
主权项 1、钨单晶晶须的低温催化合成方法,包括下述工艺步骤:第一步:按质量百分比取5%~30%的金属硝酸盐与70%~95%的氧化钨粉末混合均匀;第二步:将第一步所得混合物在750~950℃温度下,在空气中煅烧2小时,得到混合金属氧化物;第三步:将第二步获得的金属氧化物粉末置于管式炉中,加热到800~1000℃,同时通入露点在15~40℃的过水氢气和氮气的混合气体,保温0.5~2小时进行还原反应,保持气氛不变,随炉降至室温,其中氮气和氢气的体积比为1∶3。
地址 410082湖南省长沙市岳麓区麓山南路1号