| 发明名称 | 像素及其形成方法、存储电容、显示面板及光电装置 | ||
| 摘要 | 一种像素及其形成方法，以及一种存储电容、显示面板及光电装置。存储电容设置于基板上，此存储电容包括半导体层、第一介电层、第一导电层、第二介电层以及第二导电层。其中半导体层设置于基板上，第一介电层则覆盖半导体层及基板，第一导电层部分设置于第一介电层上。第二介电层设置于第一导电层上，且第二介电层与第一导电层的侧边具有一斜度。而第二导电层则部分设置于第二介电层上。本发明可以提升存储电容的电容值，并保持像素呈像的稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN100550396C | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200710101078.2 | 申请日期 | 2007.04.26 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 郑逸圣 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈 晨 |
| 主权项 | 1.一种存储电容，设置于基板上，包括：至少一半导体层，设置于该基板上；至少一第一介电层，覆盖该半导体层及该基板；至少一第一导电层，设置于部分第一介电层上；至少一第二介电层，设置于该第一导电层上，该第二介电层与该第一导电层的堆叠侧边具有斜度；以及至少一第二导电层，设置于部分第二介电层上。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||