发明名称 用于增加蓝光透光率之低电阻光衰减抗反射涂层结构(二)及其制作方法(二)
摘要 一种用于增加蓝光透光率之低电阻光衰减抗反射涂层结构(extreme low resistivity light attenuation anti-reflection coating structure)(二),其包括有:一基板(substrate)及一涂层模组(coating module)。其中,该涂层模组系形成于该基板之一前表面上,并且该涂层模组系由复数层碳矽化合物(silicon carbide compound)与含钛氧化物(Ti-based oxide)的混合物涂层(mixture coating layer)、复数层含铝氧化物涂层(Al-based oxide coating layer)、与复数层金属涂层(metal coating layer)彼此相互交替相叠而组成。
申请公布号 TW200938874 申请公布日期 2009.09.16
申请号 TW097109199 申请日期 2008.03.14
申请人 智盛全球股份有限公司 发明人 张正杰;刘秀凤;郭璧瑞
分类号 G02B1/11(2006.01) 主分类号 G02B1/11(2006.01)
代理机构 代理人 王云平;黄怡菁
主权项
地址 新竹市东光路192号3楼之5