发明名称 |
图案化磁记录介质及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供具备具有划分信息记录区域的凹凸图案的磁性层、耐腐蚀性优异的第一保护层和磁头滑动性优异的第二保护层的图案化磁记录介质及其制造方法。其包括具有划分信息记录区域的道状和/或点状的凹凸图案的磁性层、覆盖该磁性层的第一保护层和形成在该第一保护层的凸部图案顶部上的第二保护层,该第二保护层由利用FCA法或FCVA法形成的四面体碳(ta-C)膜构成。其制造方法包括在底层或磁性层上利用纳米压印法形成光固化性抗蚀剂的蚀刻图案、蚀刻底层或磁性层形成凹凸图案的工序;在磁性层的凹凸图案上利用等离子体CVD法形成第一保护层的工序;和在该第一保护层的凹凸图案的至少顶部利用FCA法或FCVA法形成由四面体碳(ta-C)膜构成的第二保护层的工序。 |
申请公布号 |
CN101515459A |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200910007634.9 |
申请日期 |
2009.02.16 |
申请人 |
富士电机电子技术株式会社 |
发明人 |
堀口道子 |
分类号 |
G11B5/74(2006.01)I;G11B5/855(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/74(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙 淳 |
主权项 |
1.一种图案化磁记录介质,所述图案化磁记录介质的信息记录区域被划分为道状和/或点状的凹凸图案,其特征在于,包括:基体、配置在该基体上的底层、配置在该底层上的具有与所述信息记录区域对应的凹凸图案的磁性层、覆盖该具有凹凸图案的磁性层的第一保护层、和形成在该第一保护层的凸部图案的至少顶部的第二保护层,所述第二保护层由利用FCA法或FCVA法形成的四面体碳(ta-C)膜构成。 |
地址 |
日本国东京都 |