发明名称 METHODS AND APPARATUS FOR ADJUSTING BEAM PARALLELISM IN ION IMPLANTERS
摘要
申请公布号 IL154563(A) 申请公布日期 2009.08.03
申请号 IL20030154563 申请日期 2003.02.20
申请人 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. 发明人
分类号 H01J37/147;H01J37/317;H01L21/265 主分类号 H01J37/147
代理机构 代理人
主权项
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