发明名称 |
METHODS AND APPARATUS FOR ADJUSTING BEAM PARALLELISM IN ION IMPLANTERS |
摘要 |
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申请公布号 |
IL154563(A) |
申请公布日期 |
2009.08.03 |
申请号 |
IL20030154563 |
申请日期 |
2003.02.20 |
申请人 |
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. |
发明人 |
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分类号 |
H01J37/147;H01J37/317;H01L21/265 |
主分类号 |
H01J37/147 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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