发明名称 沈积方法与发光装置的制造方法
摘要 一个目的是提供一种沈积方法,透过该方法可以以高生产力形成具有所需形状的薄膜。而且,提供一种制造发光装置的方法,透过该方法可以以高生产力制造具有高清晰度的发光装置。具体而言,提供一种甚至在使用大尺寸基材的情况下也具有高清晰度的发光装置的制造方法。透过使用沈积靶基材和面积比沈积靶基材小的蔽荫遮罩,将沈积靶基材和蔽荫遮罩彼此对准,并透过多个沈积步骤将蒸发材料沈积在沈积靶基材的至少一部份上。作为蒸发源,较佳使用光吸收层和具有蒸发材料的支撑基材。
申请公布号 TW200932930 申请公布日期 2009.08.01
申请号 TW097140304 申请日期 2008.10.21
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 平形吉晴;山崎舜平
分类号 C23C14/24(2006.01);H05B33/10(2006.01);H01L51/56(2006.01) 主分类号 C23C14/24(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本