光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法

摘要

一种用于利用计算机模拟技术优化光刻装置的照明条件的方法，所述光刻装置包括一个照明器和一个投影系统，所述方法包括：确定要印刷在基底上的光刻图案；选择模拟模型；选择照明器的光瞳平面中的一格栅的源点；计算个别源点的单独响应，每个响应表示一个或一系列使用模拟模型的模拟结果：以及在单独计算值累计结果的分析基础上调节照度分布。其中选择模拟模型的步骤包括，选择一种用于在基底上印制图案的抗蚀方法，并选择一个抗蚀模型，所述抗蚀模型是能预测实验结果的标准模型。本发明还提供一种执行上述方法的光刻投影装置、具有机械可执行命令编码的机械可读媒介、以及设备的制造方法。

主权项

1. 一种用于利用计算机模拟技术优化光刻装置的照明条件的方法，所述光刻装置包括一个照明器和一个投影系统，所述方法包括：确定要印刷在基底上的光刻图案；选择模拟模型；选择照明器的光瞳平面中的一格栅的源点；计算个别源点的单独响应，每个响应表示一个或一系列使用模拟模型的模拟结果：以及在单独计算值累计结果的分析基础上调节照度分布，其中选择模拟模型的步骤包括，选择一种用于在基底上印制图案的抗蚀方法，并选择一个抗蚀模型，所述抗蚀模型是能预测实验结果的标准模型。