气体供给装置，基板处理装置及基板处理方法

摘要

[课题]边采用简易的配管构造边有效的进行基板之最外周的特性修正。[解决手段]气体供给装置60系具备：淋浴头16、和朝向淋浴头16供给处理气体的处理气体供给部66、和流动来自处理气体供给部66的处理气体的处理气体供给流路64、和从处理气体供给流路64分叉，将处理气体供给到淋浴头16的分叉流路64a、64b、和朝向淋浴头16供给附加气体的附加气体供给部75、和来自附加气体供给部75的附加气体于淋浴头16流动的附加气体供给流路76，淋浴头16系具有：将气体供给到晶圆W之配置区域的第1、第2气体导入部51、52、和将气体供给到比晶圆W之外缘更靠近外侧的第3气体导入部53，分叉流路64a、64b系连接到第1、第2气体导入部51、52，附加气体供给流路76系连接到第3气体导入部53。