发明名称 卷绕式真空蒸镀装置
摘要 本发明提供一种能够在不降低生产效率的情况下抑制薄膜上产生受热影响区域的卷绕式真空蒸镀装置。本发明涉及的卷绕式真空蒸镀装置(10)包括放卷辊(13)、卷绕从放卷辊(13)放出的薄膜(12)的卷绕辊(15)、配置在放卷辊(13)和卷绕辊(15)之间紧贴薄膜(12)以便对该薄膜进行冷却的冷却辊(14)、与冷却辊(14)相向配置将蒸镀材料蒸镀于薄膜(12)上的蒸发源(16)以及配置在放卷辊(13)和蒸发源(16)之间向行走的薄膜(12)照射电子束的电子束照射器(21);电子束照射器(21)具有通过通电加热放出电子的丝极(31)和向该丝极(31)供应直流电流的直流发生机构。
申请公布号 CN101484608A 申请公布日期 2009.07.15
申请号 CN200780023547.1 申请日期 2007.06.07
申请人 株式会社爱发科 发明人 林信博;广野贵启;多田勋;中塚笃;小松研二
分类号 C23C14/56(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 何腾云
主权项 1. 一种卷绕式真空蒸镀装置,包括:真空腔、配置在该真空腔的内部并连续地放出绝缘性的薄膜的放卷辊、卷绕从该放卷辊放出的薄膜的卷绕辊、配置在上述放卷辊和上述卷绕辊之间并紧贴上述薄膜对该薄膜进行冷却的冷却用辊、与上述冷却用辊相向配置并将蒸镀材料蒸镀到上述薄膜上的蒸发源、以及配置在上述放卷辊和上述蒸发源之间并向行走的上述薄膜照射电子束的电子束照射器,其特征在于,上述电子束照射器具有:通过通电加热来放出电子的丝极、以及向上述丝极供应直流电流的直流发生机构。
地址 日本神奈川