发明名称 |
一种用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法,其特征在于:在传统的用于激光晶体的介质/金属的复合膜系之间增加了一层硬质薄膜缓冲层,其作用是增加介质-金属复合膜系的结合力,并提高复合膜系的抗激光损伤阈值,适应了大功率激光器的发展需要。所述的缓冲层薄膜是通过电子束热蒸发制备的,生长过程是首先将TiN颗粒及清洗后的衬底置于真空生长室中;将生长室抽真空;利用电子束照射TiN颗粒,同时在真空室中通入一定量的氮气或是氮离子,TiN缓冲层薄膜就会沉积到衬底上。本发明TiN缓冲层可以显著提高复合膜系的结合力和抗激光损伤阈值,对于飞速发展的高功率激光器有着重大的理论和现实意义。 |
申请公布号 |
CN101478109A |
申请公布日期 |
2009.07.08 |
申请号 |
CN200910045114.7 |
申请日期 |
2009.01.09 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
李效民;何西亮;吴洁华;宋力昕;高相东 |
分类号 |
H01S3/042(2006.01)I;H01S3/16(2006.01)I;H01S3/0941(2006.01)I |
主分类号 |
H01S3/042(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1、一种用于激光晶体的光学薄膜结构,其特征在于在介质/金属的复合膜之间增加一层硬质缓冲层薄膜,所述的缓冲层薄膜是与热导率高的金属复合膜系相匹配的材料。 |
地址 |
200050上海市定西路1295号 |