发明名称 | 气化装置、成膜装置、成膜方法、电脑程式及记忆媒体 | ||
摘要 | 本发明系当对基板供给已使液体材料气化的气体材料而进行成膜处理时,以高效率将液体材料气化,而抑制微尘发生。在用以对基板进行成膜处理的液体材料中,使其发生带有正电及负电之其中一方且粒径为1000nm以下的气泡,将该液体材料雾化而形成液体材料的雾气,另外将该液体材料的雾气加热而使其气化。由于预先使极为微少的气泡以较高的均一性分散在液体材料中,因此在将该液体材料雾化时,可获得极微细且均一之液体材料的雾气,因而形成容易热交换的状态。若将该液体材料的雾气气化,气化效率会变高,而抑制微尘发生。 | ||
申请公布号 | TW200927982 | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
申请号 | TW097135558 | 申请日期 | 2008.09.17 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 泽田郁夫;濑川澄江;池田恭子;大下辰郎 |
分类号 | C23C16/448(2006.01);H01L21/02(2006.01) | 主分类号 | C23C16/448(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |