| 发明名称 | 掩模板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种掩模板，包括基板，基板上设置有可掩模出第一电路图案的第一偏振片和可掩模出第二电路图案的第二偏振片，第一偏振片和第二偏振片的偏振方向相互垂直。本发明还涉及一种掩模板制造方法，包括：在基板上粘贴第一偏振片；在第一偏振片上形成第一电路图案；在基板上粘贴第二偏振片，第二偏振片的偏振方向垂直于第一偏振片的偏振方向；在第二偏振片上形成第二电路图案。本发明有效克服了现有掩模板只能掩模出一种电路图案的缺陷和现有掩模板可修复性差、有环境污染隐患的缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN101435990A | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200710177426.4 | 申请日期 | 2007.11.15 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 周伟峰;金基用;郭 建;明 星 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;B32B37/12(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘 芳 |
| 主权项 | 1、一种掩模板，包括基板，其特征在于：所述基板上设置有可掩模出第一电路图案的第一偏振片和可掩模出第二电路图案的第二偏振片，所述第一偏振片和第二偏振片的偏振方向相互垂直。 | ||
| 地址 | 100176北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||