曝光设备,图案、沟道、孔形成方法,液晶显示器及制造方法

摘要

本发明涉及一种曝光设备，即使曝光设备具有低分辨率，也可以通过改变掩模图案形成微米图案，本发明还涉及用于分别形成图案、沟道和孔的方法，和液晶显示器件及其制造方法。用于形成图案的方法包括如下步骤：在基板上形成薄膜，在薄膜上涂覆光致抗蚀剂膜，将掩模在光致抗蚀剂膜上对准，该掩模形成在基底材料上，且包括光遮蔽部分和限定在除光遮蔽部分以外区域的透射部分，所述的光遮蔽部分具有线性支持部分和在该支持部分的边界处的非平坦部分，利用掩模将光致抗蚀剂膜曝光于波长大于300nm的UV光束，以在非平坦部分邻近处引起折射，并且对曝光的光致抗蚀剂膜显影，由此形成光致抗蚀剂膜图案，利用形成的光致抗蚀剂膜图案构图薄膜。

主权项

1. 一种曝光设备，包括：发射波长大于300nm的UV光束的光源；以及形成在基底材料上的掩模，该掩模包括光遮蔽部分和限定在除所述光遮蔽部分以外区域中的透射部分，所述的光遮蔽部分具有一线性支持部分和在该支持部分边界处的非平坦部分，且所述光遮蔽部分的最大长度小于4μm。