发明名称 直接曝光装置
摘要 本发明提供一种直接曝光装置,其曝光头组合1具有朝次扫瞄方向Y、平行间隔W之曝光头10、11、12、13。曝光台5可于曝光头组合1下朝次扫瞄方向Y移动,曝光台5上之印刷电路板90可在曝光头10、11、12、13下传送,并依序由曝光头10、11、12、13进行曝光。曝光头10、11、12、13具有线性排列且具相同间隔距离P之LED 20,LED 20在主扫瞄方向X上于曝光头10、11、12、13间之间隔距离为d,且曝光头10、11、12、13在相同位置朝次扫瞄方向Y进行重复曝光,达到高准确定位曝光之目的。
申请公布号 TW200919122 申请公布日期 2009.05.01
申请号 TW097132899 申请日期 2008.08.28
申请人 亚多特克工程股份有限公司 发明人 中野幸夫
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/22(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本