METHOD FOR REDUCING MACRODEFECTS IN THE PRODUCTION OF SINGLE-CRYSTAL OR MONOCRYSTALLINE LAYERS

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Einkristallen oder einkristallinen Schichten mittels Lösungs Züchtung, bei dem Stoffe für die Bildung der Einkristalle oder einkristallinen Schichten in eine Lösung (3) einer bestimmten Dichte eingebracht und durch Übersättigung der Lösung (3) an einem Keim oder einem Substrat (4) kontrolliert abgeschieden werden. Bei einer Anordnung des Keims oder Substrats (4) bei der Lösungszüchtung in einem unteren Bereich des von der Lösung (3) eingenommenen Volumens wird die Dichte der Lösung (3) durch Zugabe zumindest eines die Dichte der Lösung (3) erhöhenden Zusatzstoffes so eingestellt, dass während der Lösungszüchtung in der Lösung (3) vorhandene oder entstehende Partikel in der Lösung (3) aufsteigen. Durch diese Maßnahme wird die Einlagerung dieser Partikel, bspw. von Kristalliten des eingesetzten Materials, in die Schicht oder den Kristall verhindert, so dass diese Partikel keine Makrodefekte in der Schicht oder dem Kristall verursachen können.