曝光设备及装置制造方法

摘要

一种用于使基底曝光的曝光设备，包括：投射光学系统，包含光学元件及配置成移动光学元件的驱动单元，投射光学系统配置成将光从原版投射至基底；支撑机构，包含气体弹簧及配置成经由气体弹簧以支撑投射光学系统；控制单元，配置成产生用于驱动单元的驱动讯号；及致动器，配置成根据驱动讯号，在与从驱动单元至光学元件的作用力所伴随的反作用力的方向相反的方向上，施加力量至投射光学系统。