| 主权项 |
1﹒用以产制式I化合物之一种方法式中R1和R2可为相同或相异之基,每一者表示1至3个碳原子之烷基,然而R1和R2中碳原子之总数不得超过4;R3和R4可为相同或相异之基,每一者表示氢、氟、氯、1至4个碳原子之直链烷基或烷氧基、或三氟甲基,其限制条件为R4系在5或6位上,且R3和R4至多一个为三氟甲基或者R3和R4可含在一起而表示1或2个碳原子之次烷二氧基;及X为一CN、COOR(其中R为氢或1至5个碳原子之烷基)、或(其中Y和Y1为相同或相异之基),每一者表示氢、氟、氯、1至4个碳原子之直链烷基或烷氧基、或三氟甲基,其限制条件为Y和Y1至多一个为三氟甲基。此法包括:使式II化合物,(式中R3.R4和X定义如上)式III化合物,(式中R1和R2定义如上)一种金属硼四氢化物与一种硬固而其平面羧基二元有机酸或此种硼四氧化物与酸之反应产物,在自0℃至100℃之温度于液体介质内共同起反应:式III化合物对式II化合物之克分子比为至少3:1及该反应产物对式II化合物之克分子比为在0﹒7:1及2﹒5:1之间,及该反应产物系使硼四氢化物与酸在─40℃至85℃之温度并以1:0﹒7至1:10之克分子比反应而成,上述二元有机酸系选自(1)一种非环状不饱和二元酸,此酸具有碳原子与碳原子之双链,于此双键中两碳原子各有羧酸基,此化合物为顺式异构体形式;(2)一种环状不饱和二元胺,此胺具有环中之碳原子与碳原子不饱和键,于此环中具有碳原子与碳原子不饱和键之两碳原子各有羧酸基,此两个碳原子为(a)彼此毗连,或为(b)各邻接于两稠环中之稠合碳原子;或(3)一种环状二元酸,其中饱和环中之两碳原子各有羧酸基,此等酸基就分子内构造关系而言系于覆内桥接或在外侧取代而固定。2﹒根据上述请求专利部份第1项之制法,其中所用之酸为式IV之化合物式中AC1和AC2各为─COO,彼此为顺式构型,及Z1和Z2各为氢或有机基,此Z1和Z2基可任意而合在一起。3﹒根据上述请求专利部份第第2项之制法,其中Z1和Z2各为氢或烃基。4﹒根据上述请求专利部份第2或3项之制法,其中AC1和AC2各为─COO─。5﹒根据上述请求专利部份第2.3或4项之制法,其中所用之酸为邻苯二甲酸。6﹒根据上述请求专利部份第2.3或4项之制法,其中所用之酸为二甲酸一[1.8]。7﹒根据上述请求专利部份第1至6项任一项之制法,其中反应产物为式V之化合物其中X为如上述请求专利部份第1至6项任一项中所界定之酸之阴离子残根,及M为自所用之硼四氢化物所衍生之相当金属阳离子。8﹒根据上述请求专利部份第7项之制法,其中该反应产物为式Va之化合物式中Z1.Z2.AC1和AC2悉如请求专利部份第2.4项中任何一项所定义,及M系如请求专利部份第7项所定义。9﹒根据上述请求专利部份第8项之制法,其中该反应产物为式Vaa之化合物其中M之定义系如请求专利部份第7项所述者。10﹒根据上述请求专利部份第8项之制法,其中该反应产物为式Vab之化合物式中M系如请求专利部份第7项所定义。11﹒根据上述请求专利部份第8至10项任何一项之制法,其中M为钠。12﹒用以制造含硼还原剂之方法,包括使固定而共平面羧基之二元有机酸与硼四氢化物反应。13﹒根据上述请求专利部份第12项之制法,其中反应系在─40─+85℃温度下进行,且酸与硼四氢化物用量之克分子比値为0﹒7:1至5:1。14﹒根据上述请求专利部份第12项或13项之制法,其中反应系在0─35℃温度下放惰性溶剂内进行,且酸与硼四氢化物用量之克分子比値为1:1至2:1。15﹒根据上述请求专利部份第12.13或14项之制法,其中反应系在10─30℃温度下于四氢喃内进行,且酸与硼四氢化物用量之克分子比値为1﹒1:1至1﹒8:1。16﹒根据上述请求专利部份第12.15项中任何一项方法,其中酸与硼氢化物之克分子比値为1﹒1:1至1﹒5:1。17﹒根据上述请求专利部份第16项之制法,其中克分子比値为1﹒1:1至1﹒3:1。18﹒根据上述请求实利部份第12─17项中任何一项之制法,其中硼四氢化物为硷金属碉氢化物。19﹒根据上述请求专利部份第18项之制法,其中该硷金属硼氢化物为硼氢化钠。20﹒根据上述请求专利部份第12─19项中任何一项之制法,其中该酸为请求专利部份第2─6项中任何一项所定义者。21﹒根据上述请求专利部份第12项之制法,实质上如本文实例3或4所述者。 |
