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发明名称 MAGNETRON PLASMA PROCESSING DEVICE
摘要
申请公布号 JPH0529269(A) 申请公布日期 1993.02.05
申请号 JP19910207408 申请日期 1991.07.23
申请人 TOKYO ELECTRON LTD;TOSHIBA CORP;TOKYO ELECTRON YAMANASHI KK 发明人 HORIOKA KEIJI;HASEGAWA MAKOTO;ISHIKAWA YOSHIO;HIRATSUKA MASATO
分类号 H01L21/203;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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