| 发明名称 | 光罩维护的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光罩维护的方法，其中，该方法在光罩进入清洗制程之前，首先采用短波长的光源照射该光罩。短波长光源照射该光罩持续一定时间，以使光罩上残留的液体充分反应形成结晶。短波长光源的波长小于193nm。与现有技术相比，本发明的方法可以便于光罩在清洗制程中被清洗的更干净，清洗后的光罩在使用过程中结晶的生长速度有效减缓，不仅减少了光罩清洗的次数，而且延长了光罩的使用时间，从而提高了最终产品的产率，并相应降低了产品的生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101290474A | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
| 申请号 | CN200710039781.5 | 申请日期 | 2007.04.20 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 袁烽;杨金坡 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1、一种光罩维护的方法，其特征在于：该方法在光罩进入清洗制程之前，首先采用短波长的光源照射该光罩。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||