形成金属层之方法以及电化学电镀金属之方法

摘要

本发明系提供一种形成低缺陷金属层之方法，包括提供一结构，形成一包含一开口之介电层于该结构上，形成一金属晶种层内衬于该开口，以一清洁步骤处理该金属晶种层以清除污染物，以及形成一金属层于该金属晶种层上。