新型抗反射导电膜

摘要

新型抗反射导电膜，有三种不同的具体结构，包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)、和透明导电膜(T)、或/和中折射率层(M)；各层膜按照L/H/S/H/L/T型、或(L/H)²/S/(H/L)²/T型、或L/M/H/S/H/M/L/T型的规律排列，形成多层复合膜。本实用新型之新型抗反射导电膜的各膜层的厚度较小，可以简化生产工艺，适合连续批量的生产，特别是适合于生产大面积的抗反射导电膜。本实用新型可以广泛用做光学玻璃或透明塑料基材料上的抗反射导电膜，在液晶显示、阴极射线管、建筑玻璃、触摸屏面板、屏幕滤波器等得到广泛的应用。

主权项

1、新型抗反射导电膜，其特征在于所述抗反射导电膜附着在透明基材(S)上，所述抗反射导电膜是至少包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)和透明导电膜(T)，所述高折射率层(H)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料，所述低折射率层(L)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.4-1.5膜层材料，所述透明导电膜(T)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.85-1.95具有弱吸收的膜层材料，而且所述抗反射导电膜的结构是以下七种膜结构中的一种：第一种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/H/S/H/L/T型；第二种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，高折射率层(H)，低折射率层(L)，且在透明基材(S)的一面的最外层为透明导电膜(T)，这种排列形式的膜结构记录为(L/H)2/S/(H/L)2/T型；组成这种9层复合膜的各膜层的厚度依次为：低折射率层(L)80-120nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)5-40nm，高折射率层(H)5-30nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)5-40nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)50-90nm，透明导电膜(T)5-40nm；第三种膜的排列结构中还包含中折射率(M)，所述的中折射率层(M)是指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.6-1.7的膜层材料；第三种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，中折射率层(M)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，中折射率层(M)的厚度在5nm至40nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/M/H/S/H/M/L/T型。