蚀刻方法及该方法所用之蚀刻组成物

摘要

在以磷类化合物蚀刻氮化矽时，若进行蚀刻一段长时间，会倾向于沉淀出氧化矽，且不可能持续地实施长时间期的蚀刻。藉由使用包含磷化合物、硼化合物、矽化合物及/或彼等的氟化物之组成物对氮化矽的蚀刻方法，即使使用该组成物长时间也没有氧化矽的沉淀。特佳者为进一步添加硝酸及/或硝酸盐，从而增加选择率的稳定性。