发明名称 |
适于光化学反应的新型聚合物基微流体反应器及制备方法 |
摘要 |
适于光化学反应的新型聚合物基微流体反应器及制备方法属于聚合物基微流体反应器制造技术领域。该反应器制备方法:在PMMA基体的进出口位置加工出与外部设备连接的顶部未打通的螺纹孔;PMMA表面旋涂EA51胶层进行表面改性;在EA51胶层表面旋涂SU8胶层,并进行前烘、曝光及后烘三步工艺;对SU8胶层未曝光部分进行显影形成微流道图案;打通进出口;在羟基化处理过的BOPP膜表面旋涂一层EA51胶层形成封盖胶层;对微流道图案进行封盖,在紧密压实的状态下对顶部封盖层曝光使胶层完全固化,便形成了封闭的微流通道。将内部套紧导管的PEEK螺钉拧入螺纹孔。本发明解决了目前微流体反应器制造中常见问题,实现了光照合成纳米颗粒,聚合物微球等微粒的全有机透明微流体反应器。 |
申请公布号 |
CN101318119A |
申请公布日期 |
2008.12.10 |
申请号 |
CN200810113777.3 |
申请日期 |
2008.05.30 |
申请人 |
北京化工大学 |
发明人 |
杨万泰;刘佳;马育红;刘莲英 |
分类号 |
B01J19/08(2006.01);B01J19/00(2006.01) |
主分类号 |
B01J19/08(2006.01) |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 |
代理人 |
刘萍 |
主权项 |
1.一种适于光化学反应的新型聚合物基微流体反应器,其特征在于,从下至上依次包括:在进出口位置开有螺纹孔的PMMA的基体,该螺纹孔中拧入内部套紧导管的PEEK螺钉,该导管出口固定在进出口的底部;PMMA基体表面旋涂的EA51胶层;在EA51胶层表面旋涂的SU8胶层,该SU8胶层未曝光部分进行显影形成微流道图案;在羟基化处理过的BOPP膜表面旋涂一层EA51胶层形成的封盖胶层,该封盖胶层对敞开的SU8胶层微流道图案进行封盖。 |
地址 |
100029北京市朝阳区北三环东路15号 |