| 发明名称 |
Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60323911(D1) |
申请公布日期 |
2008.11.20 |
| 申请号 |
DE20036023911 |
申请日期 |
2003.08.25 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
SCHUURMANS, FRANK JEROEN PIETER;BAKKER, LEVINUS PIETER |
| 分类号 |
G03F7/20;G21K1/06;G21K5/00;G21K5/02;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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