真空处理装置的搬送定位方法、真空处理装置和计算机存储介质

摘要

本发明提供一种真空处理装置的搬送定位方法，在真空搬送腔室(10)内设置有检测半导体晶片(W)位置的位置检测机构(33)，通过真空搬送机构(30)，将配置在负载锁定腔室(17)、真空处理腔室(11～16)的规定位置上的半导体晶片(W)搬送至位置检测机构(33)，检测其位置，由该检测结果，进行负载锁定腔室(17)、真空处理腔室(11～16)的定位。

主权项

1.一种真空处理装置的搬送定位方法，其特征在于：其是对真空处理装置的真空搬送机构的进入点进行定位的方法，所述真空处理装置包括：真空搬送机构，设置在真空搬送腔室内，在真空氛围气体下搬送基板；多个真空处理腔室，与所述真空搬送腔室连接，对所述基板实施真空处理；和负载锁定腔室，与所述真空搬送腔室连接，所述真空搬送腔室内设置有检测所述基板位置的位置检测机构，通过所述真空搬送机构，将配置在所述进入点的规定位置的所述基板搬送至所述位置检测机构，检测该基板的位置，由该检测结果进行所述进入点的定位。