| 摘要 |
一种发光二极体内大面积二维光子晶体的制作方法被提出。首先，提供一发光二极体，并且形成一感光材料层于发光二极体上。接着，提供至少三道光线于感光材料层上，并使上述光线在感光材料层上形成一大面积二维干涉图案，以藉由此二维干涉图案对感光材料层进行曝光。然后，移除被曝光或未被曝光部份的感光材料层，以在感光材料层上形成一罩幕图案。之后，转移感光材料层上的罩幕图案至发光二极体上，以在发光二极体上形成二维光子晶体的一微结构。此制作方法的步骤简单，并可在发光二极体内形成具有高几何稳定性的二维光子晶体，以提高发光二极体的光取出效率。 |
