| 发明名称 | 可降低蚀刻损害的图像传感器制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种可减小蚀刻损害的图像传感器像素制造方法。该方法包括：在基体中形成感光元件；在基体的顶部且邻近感光元件形成门电路；在感光元件上方形成保护层，比如防反射敷层：在保护层和门电路的上方形成敷层氧化层；最后，蚀刻氧化层，以在门电路堆栈的侧壁形成侧壁隔片。本发明的保护层保护了感光元件表面不受蚀刻的损害。 | ||
| 申请公布号 | CN100426488C | 申请公布日期 | 2008.10.15 |
| 申请号 | CN200610110604.7 | 申请日期 | 2006.07.18 |
| 申请人 | 豪威科技有限公司 | 发明人 | 霍华德·E·罗德斯 |
| 分类号 | H01L21/82(2006.01);H01L27/146(2006.01) | 主分类号 | H01L21/82(2006.01) |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人 | 戴建波 |
| 主权项 | 1、一种方法，其包括：在基体中形成感光元件；在所述基体的顶部且邻近所述感光元件处形成门电路；在所述感光元件的上方形成保护层；在所述保护层和所述门电路的上方形成绝缘层；以及蚀刻所述的绝缘层，以在门电路堆栈的侧壁处形成侧壁隔片。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州桑尼维尔市 | ||