发明名称 |
半导体封装用覆层玻璃 |
摘要 |
本发明的课题是提供作为澄清剂不含有As<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,而且限制了Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>或Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB>的含量,同时气泡少的半导体封装用覆层玻璃。本发明的玻璃的特征是,以质量%计,含有SiO<SUB>2</SUB> 58~72%、Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> 0.5~15%、B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>8~18%、碱金属氧化物7.5~20%、碱土类金属氧化物0~20%、ZnO0~10%、Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>+Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB> 0~0.2%、F<SUB>2</SUB>+Cl<SUB>2</SUB>+C+SO<SUB>3</SUB>+SnO<SUB>2</SUB> 0.01~3%,实际上不含As<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>。 |
申请公布号 |
CN100418911C |
申请公布日期 |
2008.09.17 |
申请号 |
CN200410092909.0 |
申请日期 |
2004.11.11 |
申请人 |
日本电气硝子株式会社 |
发明人 |
桥本幸市;二上勉 |
分类号 |
C03C3/093(2006.01);C03C3/11(2006.01);H01L27/14(2006.01) |
主分类号 |
C03C3/093(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1. 半导体封装用覆层玻璃,其特征在于以质量%计,含有SiO258~72%、Al2O30.5~15%、B2O38~18%、碱金属氧化物7.5~20%、碱土类金属氧化物0~20%、ZnO 0~10%、Sb2O3+Sb2O50~0.2%、F2+Cl2+C+SO3+SnO2+CeO20.01~3%,实际上不含As2O3。 |
地址 |
日本滋贺县 |