发明名称 半导体封装用覆层玻璃
摘要 本发明的课题是提供作为澄清剂不含有As<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,而且限制了Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>或Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB>的含量,同时气泡少的半导体封装用覆层玻璃。本发明的玻璃的特征是,以质量%计,含有SiO<SUB>2</SUB> 58~72%、Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> 0.5~15%、B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>8~18%、碱金属氧化物7.5~20%、碱土类金属氧化物0~20%、ZnO0~10%、Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>+Sb<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB> 0~0.2%、F<SUB>2</SUB>+Cl<SUB>2</SUB>+C+SO<SUB>3</SUB>+SnO<SUB>2</SUB> 0.01~3%,实际上不含As<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>。
申请公布号 CN100418911C 申请公布日期 2008.09.17
申请号 CN200410092909.0 申请日期 2004.11.11
申请人 日本电气硝子株式会社 发明人 桥本幸市;二上勉
分类号 C03C3/093(2006.01);C03C3/11(2006.01);H01L27/14(2006.01) 主分类号 C03C3/093(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈昕
主权项 1. 半导体封装用覆层玻璃,其特征在于以质量%计,含有SiO258~72%、Al2O30.5~15%、B2O38~18%、碱金属氧化物7.5~20%、碱土类金属氧化物0~20%、ZnO 0~10%、Sb2O3+Sb2O50~0.2%、F2+Cl2+C+SO3+SnO2+CeO20.01~3%,实际上不含As2O3。
地址 日本滋贺县