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一种氮化物系半导体多层磊晶结构
摘要
一种氮化物系半导体多层磊晶结构,其包含一基板;一缓冲层系位于该基板之上;一N型掺杂之半导体叠层系位于该缓冲层之上;一本质未掺杂半导体叠层系位于该N型掺杂之半导体叠层之上;一P型掺杂之半导体叠层系位于该本质未掺杂半导体叠层之上;至少两个金属电极,分别在于P型掺杂之半导体叠层及N型掺杂之半导体叠层之上以形成欧姆电性接触。其特征在于成长本质未掺杂半导体叠层时,降低成长温度,成长一至多层低温成长活化层。低温成长活化层具有较好的捕捉光子效率,可以提高光电二极体或光侦测器的灵敏度。
申请公布号
TW200834665
申请公布日期
2008.08.16
申请号
TW096105617
申请日期
2007.02.15
申请人
国防部军备局中山科学研究院
发明人
林家庆;蓝文厚;黄国钦;林文仁;程一诚;林科均;张善宽
分类号
H01L21/20(2006.01)
主分类号
H01L21/20(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
桃园县龙潭乡中正路佳安段481号
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