使用阴影心轴和偏轴曝光印制亚光刻图像

摘要

本发明克服了现有技术的局限，能形成逻辑电路中使用的较小部件。本发明提供了一种在通过使用称做阴影心轴层的材料层产生阴影，在半导体衬底上限定和形成结构的新方法。在阴影心轴层中腐蚀出沟槽。沟槽的至少一侧用于在沟槽的底部投射阴影心轴层。保形淀积的光致抗蚀剂用于捕获阴影的图像。阴影的图像用于限定和形成结构。这能够在晶片的表面上形成图像，不会产生常规光刻中遇到的衍射效应。这样能够减小器件的尺寸并增加芯片的工作速度。

主权项

1.一种在衬底上限定结构的方法，包括以下步骤：a.在衬底上淀积阴影心轴层；b.在阴影心轴层中腐蚀出沟槽，沟槽具有侧壁和底部；c.在阴影心轴层和沟槽上淀积光致抗蚀剂层；d.以一定角度曝光光致抗蚀剂层，使得沟槽底部第一部分的光致抗蚀剂被曝光，和沟槽底部第二部分的光致抗蚀剂由沟槽侧壁阻挡并且不被曝光；e.显影光致抗蚀剂层；以及f.使用显影的光致抗蚀剂层限定结构。