| 发明名称 |
Verfahren, Inspektionssystem, Rechnerprogramm und Referenzsubstrat zum Erkennen von Maskenfehlern |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE60321525(D1) |
申请公布日期 |
2008.07.24 |
| 申请号 |
DE20036021525 |
申请日期 |
2003.10.27 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN DER WERF, JAN EVERT;MUD, AUKE JAN |
| 分类号 |
G01B11/00;G03F7/20;G01B11/24;G01N21/956;G03F1/08;G03F1/16;H01L21/027;H01L21/66 |
主分类号 |
G01B11/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
