| 主权项 |
1.一种微影装置,其包含: 一照明系统,其经组态以提供一辐射光束; 一第一支撑结构,其经组态以支撑在辐射光束之横 截面中赋予其一所要图案之一图案化器件; 一第二支撑结构,其包括一用于固持一基板之基板 固持器; 一投影系统,其经组态以将该图案化辐射光束投影 于一在该基板之一表面的目标区上; 一伺服单元,其经组态以定位该基板固持器; 一感应器单元,其经组态以判定该基板之该表面上 之至少一个位置点相对于一参考平面之距离; 一记忆体单元,其经组态以基于该基板表面上各个 对应于该至少一个位置点的距离,储存该基板的表 面资讯;及 一计算单元,其经组态以基于该所储存之表面资讯 判定一进馈设定点信号, 其中该进馈设定点信号被向前馈送至该伺服单元 以定位该基板固持器。 2.如请求项1之微影装置,其中该感应器单元包括一 用于量测该基板之该表面资讯的水平感应器。 3.如请求项2之微影装置,其中该基板之该储存之表 面资讯被格式化成一量测距离阵列,其为二维座标 之函数,其中该等二维座标之每一者系由该参考平 面上之该对应位置点之一正交投影所定义。 4.如请求项2之微影装置,其中该基板固持器具备一 用于支撑该基板之大体上平坦之支撑表面,且其中 该参考平面大体上平行定向于该支撑表面。 5.如请求项4之微影装置,其中该参考平面具有一相 对于该投影系统之固定位置,使得相对于该投影系 统而判定该基板表面之该等距离。 6.如请求项2之微影装置,其中该计算单元经组态以 基于该表面资讯而以一数学平滑函数拟合该基板 表面,且基于该拟合函数计算该进馈设定点信号。 7.如请求项6之微影装置,其中该数学函数包含局部 拟合该基板表面之至少一个多项式函数。 8.如请求项6之微影装置,其中该计算单元经组态以 计算该数学平滑函数之导数,以用于计算并将其并 入该进馈设定点信号中之一速度信号及力信号之 至少一者。 9.如请求项2之微影装置,其中该第二支撑结构包含 一用于固持一第二基板之第二基板固持器,且其中 当将该图案化辐射光束投影于置放在该基板固持 器上之该基板表面之该目标区上时,判定该第二基 板之表面资讯,其中该基板固持器经配置以藉由该 伺服单元基于该基板之先前所判定的表面资讯而 定位。 10.一种控制光束投影于一基板上之方法,其包含: 在一基板固持器之一支撑表面上提供该基板; 使用一照明系统来提供一辐射光束; 在该辐射光束之横截面中赋予其一所要图案,该所 要的图案系由一图案化器件提供; 经由一投影系统将该图案化辐射光束投影于该基 板之一表面上; 判定该基板表面上之至少一个位置点相对于一参 考平面之一距离,该参考平面处于相对于该投影系 统之一固定位置; 储存基于该基板表面上各个对应于该至少一个位 置点之距离之该基板之表面资讯; 基于该所储存之表面资讯而计算一设定点信号;将 该设定点信号转递至一经组态以定位该基板固持 器之伺服单元;及 基于该转递的设定点信号而相对于该投影系统定 位该基板固持器。 11.一种微影基板聚焦控制系统,其包含: 一基板支撑结构,其具有一经组态以固持一基板之 基板固持器; 一伺服单元,其经组态以定位该基板固持器; 一感应器单元,其经组态以判定该基板之该表面上 之至少一个位置点相对于一参考平面之距离; 一记忆体单元,其经组态以基于该基板表面上之各 个对应于该至少一个位置点的距离,储存该基板之 表面资讯;及 一计算单元,其经组态以基于该所储存之表面资讯 判定一进馈设定点信号,其中该进馈设定点信号被 向前馈送至该伺服单元以定位该基板固持器。 12.如请求项11之微影基板聚焦控制系统,其中该感 应器单元包括一用于量测该基板之该表面资讯的 水平感应器。 13.如请求项12之微影基板聚焦控制系统,其中该基 板之该所储存之表面资讯被格式化成一量测距离 之阵列,该阵列为二维座标的函数,其中该等二维 座标之每一者系由该参考平面上之该对应位置点 之一正交投影所定义。 14.如请求项12之微影基板聚焦控制系统,其中该基 板固持器具备一用于支撑该基板之大体上平坦的 支撑表面,且其中该参考平面大体上平行定向于该 支撑表面。 15.如请求项14之微影基板聚焦控制系统,其中该参 考平面具有一相对于将一图案化辐射光束投影于 该基板上之投影系统的固定位置,且其中相对于该 投影系统判定该基板表面之该等距离。 16.如请求项12之微影基板聚焦控制系统,其中该计 算单元经组态以基于该表面资讯而以一数学平滑 函数拟合该基板表面,且基于该拟合函数计算该进 馈设定点信号。 17.如请求项16之微影基板聚焦控制系统,其中该数 学函数包含局部拟合该基板表面之至少一个多项 式函数。 18.如请求项16之微影基板聚焦控制系统,其中该计 算单元经组态以计算该数学平滑函数之导数,以用 于计算并将其并入该进馈设定点信号中之一速度 信号及力信号之至少一者。 19.如请求项12之微影基板聚焦控制系统,其中该基 板支撑结构包含一第二基板固持器,且其中在将该 图案化辐射光束投影于置放在该基板固持器上之 该基板表面之该目标区上时,判定该第二基板之表 面资讯,其中该基板固持器经配置以藉由该伺服单 元基于该基板之先前所判定的表面资讯而定位。 图式简单说明: 图1描绘了根据本发明之实施例的微影装置; 图2为基板之表面的一维表示的示意图; 图3描述了微影装置之习知聚焦控制; 图4描述了用于根据本发明之微影装置之聚焦控制 的控制系统;及 图5为不同伺服响应轮廓之示意性概述。 |
