发明名称 |
利用氟之离子源清洁 |
摘要 |
用来从离子源内表面移除沉积的沉积清洁系统包括一个氟源、一个节流阀装置以及一个控制器。氟源将氟提供到离子源以作为清洁材料。节流阀装置透过至少部分覆盖源孔径来减轻从离子源孔径通过的氟损失。控制器控制从氟源到离子源的供应以及流量,也控制节流阀装置的位置。 |
申请公布号 |
TW200828420 |
申请公布日期 |
2008.07.01 |
申请号 |
TW095147853 |
申请日期 |
2006.12.20 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
威廉F. 狄佛吉利欧;丹尼尔R. 堤格;威廉P. 雷诺斯;克里斯托佛W. 霍格登;辛 乔伊丝 |
分类号 |
H01L21/265(2006.01);H01L21/30(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/265(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
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地址 |
美国 |