涂敷、显影装置及其方法以及存储介质

摘要

本发明的涂敷、显影装置通过在涂敷膜形成用单位块上设置退避组件，减少接口臂设置数，削减制造成本并缩小装置占用面积。在COT层(B3)上设置能够使比涂敷组件(COT1～COT3)数多1个数量的晶片(W)退避的退避组件(BF31～34)。在COT层(B3)中，以调温组件(CPL3、COT1～COT3)、加热冷却组件(LHP3、BF31～34)的搬送路径搬送晶片(W)，当曝光装置(S4)的处理速度小于COT层(B3)的处理速度时，通过主臂(A3)搬送晶片(W)，使置于所述CPL3下游侧组件的晶片(W)总数成为比从所述CPL3的下一组件到退避组件之前的组件为止的所述搬送路径的总组件数多1个的数量。

主权项

1.一种涂敷、显影装置，其特征在于：在一个涂敷膜形成用单位块或者相互叠层的多个涂敷膜形成用单位块中，在由输送器搬入到输送块上的基板上形成包含抗蚀剂膜的涂敷膜，之后经由接口模块将该基板搬送到曝光装置，并在相对于所述涂敷膜形成用单位块叠层的显影处理用单位块中对经由所述接口模块返回的曝光后的基板进行显影处理，并将其交接到所述输送模块，并且，所述单位块具有放置基板的多个组件和在所述组件之间进行基板的搬送的基板搬送机构，根据预先设定的搬送程序表，通过基板搬送机构从下游侧的组件内的基板开始，一个一个顺次地将其移动到之后的组件，由此形成次序小的基板与次序大的基板相比位于更下游侧组件的状态，由此进行一个搬送循环，结束该搬送循环后，进行下一个搬送循环，由此进行基板的搬送，该涂敷、显影装置包括：设置在所述涂敷膜形成用单位块上的对基板进行调温的调温组件、对基板涂敷涂敷液的液处理组件、以及加热基板并接着对其进行冷却的加热冷却组件；退避组件，设置在所述涂敷膜形成用单位块上，能够使比所述液处理组件数多n个数量的基板退避；和控制部，对单位块内的基板搬送机构进行控制，使得在涂敷膜形成用单位块中，按照所述调温组件、所述液处理组件、所述加热冷却组件、所述退避组件的搬送路径，从所述调温组件侧向所述退避组件侧搬送基板，并且当曝光装置的处理速度小于涂敷膜形成用单位块的处理速度时，使置于所述调温组件的下游侧的组件的基板总数成为比从所述调温组件的下一组件到所述退避组件之前的组件为止的所述搬送路径的总组件数多n个的数量。