| 摘要 |
本发明『一种局部雷射全像图案之雷射全像膜与其制程』,系指一雷射全像薄膜,使一透明或不透明之基材上方依序结合一具有含文字及/或图案的雷射全像显影区域之感压涂布层,或未具雷射全像显影之感压涂布层、一金属或金属氧化物之沈积层;本项发明系利用非化学蚀刻方式之金属镀膜局部图案制程,先利用印刷方式在涂布雷射全像感压层之基材表面,产生局部图案之图形遮蔽保护,并于镀膜制程前,再以雷射全像轮辊滚压方式,于基材上形成受感压之图案或线条转移,以此具备雷射全像图文之基材作为镀膜之支撑载体,并再以真空镀膜方式沈积导电金属粒子或金属氧化物粒子,形成连续之高反射率外观金属光泽薄膜,其后,并藉由水溶液之选择性溶解剥离,免除化学药剂之酸硷蚀刻制程,进而显影且呈现出局部雷射全像镀膜图案,本发明之局部雷射全像膜可选择产生双面全像或单面雷射全像图案之效果。 |
