| 发明名称 |
Sputterbeschichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines Films |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60226115(D1) |
申请公布日期 |
2008.05.29 |
| 申请号 |
DE20026026115 |
申请日期 |
2002.10.26 |
| 申请人 |
CANON ANELVA CORP. |
发明人 |
KENJI OKATANI;SATOSHI YAMADA;YOSHIRO HASEGAWA |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;C23C14/22;G11B5/00;G11B5/851;H01L21/687 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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