| 发明名称 | 形成单元标识的方法、具有单元标识的显示基板和设备 | ||
| 摘要 | 一种单元标识形成方法，包括：在基板上形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。 | ||
| 申请公布号 | CN101179011A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200710186032.5 | 申请日期 | 2007.11.09 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 郑基勳;梁容豪 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L23/544(2006.01);G02F1/133(2006.01);G02F1/1362(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 戎志敏 |
| 主权项 | 1.一种单元标识形成方法，包括：在基板上沉积金属以形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||